Atomik Tabaka Depozisyonu (ALD)

Bu ürün hakkında

Tedarikçinin ürün sayfasını ziyaret edin

ALD (Atomik Tabaka Depozisyonu) vakum altında gaz öncülleri kullanarak ince film malzemeleri kaplamak için bir depozisyon işlemidir. İşlenmesi gereken parçalar vakumlu bir makineye yerleştirilir. Öncelikle, işlenmesi gereken parçaların yüzeyine yayılan bir A öncülü tanıtılır, ardından B öncülü tanıtılır ve ilk yerleştirilen atomlarla reaksiyona girerek ilk atomik tabakayı oluşturur. Bu döngü, istenen kalınlık elde edilene kadar tekrarlanır. Depozisyon sıcaklığı 150 ile 200° arasında değişmektedir. Avantajlar Mükemmel uyum 3D parçalar üzerinde mükemmel homojenlik Kaplamanın tekrarlanabilirliği Nanometre ölçeğinde kalınlık kontrolü İyi kimyasal stabilite Mükemmel bariyer tabakası Çevre dostu teknoloji

Anahtar kelimeler

Çelikler ve metaller - yüzey işlemesi ve kaplama atomik katman birikimi vakum deposu Endüstriyel Analiz Laboratuvarı

Doğrulandı

SURCOTEC SA

ch. Pont-du-Centenaire 109a, Plan-Les-Ouates Ge 1228

İsviçre

Web sitesini ziyaret edin

Teslimat: Ulusal

Tedarikçi türü

Hizmet