FİZİKSEL BUHAR DEPOZİSYONU (PVD) - MAGNETRON SPUTTERING

PVD (Fiziksel Buhar Birikimi) vakum altında ince film malzemelerin buhar yoluyla kaplanmasını sağlayan bir kaplama sürecidir. İşlenmesi gereken parçalar vakumlu bir makineye yerleştirilir. Bir gazın eklenmesinin ardından bir plazma oluşturulur ve pozitif yüklü iyonlar, negatif yüklü elektrot veya "hedef" üzerinde elektrik alanı tarafından hızlandırılır. Hedef, kaplanacak malzemedir. İyonlar, atomları dışarı atacak kadar güçlü bir kuvvetle hedefe çarpar. Bu atomlar, yakınlardaki yüzeylerde yoğunlaşarak kaplamayı oluşturur. İşlem hızını artırmak için hedefler bir magnetron üzerine yerleştirilir, böylece sürecin verimliliği artırılır ve endüstriyel hale gelir. Bu düşük sıcaklıkta işlem, geniş bir alt tabaka yelpazesi üzerinde her türlü malzemenin kaplanmasını sağlar. Bu, çok çeşitli malzemelerin birikimini mümkün kılar.