AURION bietet speziell auf die Kundenanforderungen zugeschnittene Sputteranlagen in verschiedensten Konfigurationen an.
Darunter finden sich kleine Laboranlagen mit einzelnen Rundkathoden, Batchanlagen mit Rechteckkathoden sowie Durchlaufanlagen.
AURION, ihtiyaçlarınıza özel olarak tasarlanmış, vakum altında substrat taşıma sistemine sahip çok odacıklı sistemler sunmaktadır.
Mevcut konfigürasy...
Plazma süreçleri kullanarak yüzeylerin işlenmesi ve kaplanması için komple sistemler
Atmosferik basınç plazması, reaktif iyon etching (RIE) ve mikrod...
Kompakt sistemler, minimal alan - Kısa işlem süreleri için yüksek plazma yoğunlukları - 2 boyutlu gaz giriş sistemi ile plazma dizisi aracılığıyla opt...
AURION, vakum altında substrat işleme ile ihtiyaçlarınıza özel çok odalı sistemler sunmaktadır.
Mevcut konfigürasyonlar arasında yükleme odaları, tra...
Parçacık hızlandırıcılarında ışın manipülasyonu (örneğin, grup sıkıştırma), kavitelerden, ışın borusundan ve HF amplifikatöründen oluşan tam entegre s...
Maks. 4 gaz akış kontrolörü, her kontrolör için 500 sccm'ye kadar akış hızı, güç bağlantısı: 3/N/PE AC 400/230V, odacık hacmi: 30 l, boyutlar (GxDxh):...
KIVOS, plazma sistemleri için çok esnek, modüler bir konsepttir.
Bu sistemler, yüzeylerin ince temizliği ve aktivasyonu, reaktif iyon etching (RIE) v...
Alüminyum veya paslanmaz çelikten yapılmış vakum kapları, yağ buharı ayırıcı ve yağ geri dönüşü ile birlikte, korozif-gaz geçirmez tasarıma sahip vaku...
AURION, ihtiyaçlarınıza özel olarak tasarlanmış, vakum altında substrat taşıma sistemine sahip çok odacıklı sistemler sunmaktadır.
Mevcut konfigürasy...
Plazma süreçleri kullanarak yüzeylerin işlenmesi ve kaplanması için komple sistemler
Atmosferik basınç plazması, reaktif iyon etching (RIE) ve mikrod...
Kompakt sistemler, minimal alan - Kısa işlem süreleri için yüksek plazma yoğunlukları - 2 boyutlu gaz giriş sistemi ile plazma dizisi aracılığıyla opt...
AURION, vakum altında substrat işleme ile ihtiyaçlarınıza özel çok odalı sistemler sunmaktadır.
Mevcut konfigürasyonlar arasında yükleme odaları, tra...
Parçacık hızlandırıcılarında ışın manipülasyonu (örneğin, grup sıkıştırma), kavitelerden, ışın borusundan ve HF amplifikatöründen oluşan tam entegre s...
Maks. 4 gaz akış kontrolörü, her kontrolör için 500 sccm'ye kadar akış hızı, güç bağlantısı: 3/N/PE AC 400/230V, odacık hacmi: 30 l, boyutlar (GxDxh):...
KIVOS, plazma sistemleri için çok esnek, modüler bir konsepttir.
Bu sistemler, yüzeylerin ince temizliği ve aktivasyonu, reaktif iyon etching (RIE) v...
Alüminyum veya paslanmaz çelikten yapılmış vakum kapları, yağ buharı ayırıcı ve yağ geri dönüşü ile birlikte, korozif-gaz geçirmez tasarıma sahip vaku...